米株
レーザーテクが５日ぶり反発、高輝度ＥＵＶプラズマ光源を新開発
レーザーテック<6920>が５日ぶりに反発している。１２日の取引終了後、高輝度ＥＵＶプラズマ光源を新たに開発したと発表しており、好材料視されている。
「ＵＲＡＳＨＩＭＡ（ウラシマ）」と名づけられた同光源は、高速回転する液体状のＳｎ（錫）にレーザーを照射してＥＵＶ光を発生させるＬＰＰ方式を採用。独自に開発したデブリミチゲーションシステムを用いることで、マスクがデブリで汚染されることのないデブリフリーのＥＵＶ光源を実現したのが特徴で、今後はアクティニックＥＵＶパターンマスク欠陥検査装置「ＡＣＴＩＳ」シリーズへの適用を進めるとしている。
出所：MINKABU PRESS
「ＵＲＡＳＨＩＭＡ（ウラシマ）」と名づけられた同光源は、高速回転する液体状のＳｎ（錫）にレーザーを照射してＥＵＶ光を発生させるＬＰＰ方式を採用。独自に開発したデブリミチゲーションシステムを用いることで、マスクがデブリで汚染されることのないデブリフリーのＥＵＶ光源を実現したのが特徴で、今後はアクティニックＥＵＶパターンマスク欠陥検査装置「ＡＣＴＩＳ」シリーズへの適用を進めるとしている。
出所：MINKABU PRESS
