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Ｖテク反発、集束イオンビームフォトマスク修正装置を開発

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2021年12月21日13時16分

【材料】Ｖテク反発、集束イオンビームフォトマスク修正装置を開発

Ｖテク　＜日足＞　「株探」多機能チャートより

　ブイ・テクノロジー<7717>が３日ぶりに反発している。きょう昼ごろ、集束イオンビームフォトマスク修正装置「Ｄｒａｃｏ（ドラコ）」の販売を開始したと発表しており、今後の業容拡大への期待が高まっているようだ。同製品は半導体をはじめ、高精細ＯＬＥＤディスプレーや大型ディスプレー用フォトマスクに対応している。

出所：MINKABU PRESS

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