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【材料】HOYAが続伸し上場来高値、EUV関連での見直し買いが継続

HOYA <日足> 「株探」多機能チャートより
 HOYA<7741>が続伸し上場来高値を更新。半導体の次世代技術「EUV(極端紫外線)」に対応したマスクブランクスなどの成長期待が膨らんでいる。市場には同社の20年3月期の連結純利益は前期比14%増の1400億円前後との見方が出ており、21年3月期の同利益は1500億円台と増益基調が続くとの観測が出ている。また、HOYAはニューフレアテクノロジー<6256>に敵対的TOB(株式公開買い付け)を仕掛けた。このことに対して、アナリストからは、ニューフレアは主にEUVフォトマスク製造に効果的とされるマルチビーム描画装置を開発中であることから、ニューフレアの買収に成功すればHOYAのポートフォリオ拡充に効果が出ることを評価する見方が出ている。

出所:MINKABU PRESS

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