サムコが大幅4日続伸、パワー半導体向けALD装置を開発と報じられる
サムコ<6387>が大幅4日続伸し、一時、前日比90円(9.3%)高の1060円まで買われ、8月31日以来の1000円台を回復している。きょう付の日刊工業新聞で、「パワー半導体向けALD装置を開発・販売」と報じられており、これを好材料視した買いが入っている。
ALD(原子層堆積)装置とは、正確に制御された方法で数ナノメートルの超薄膜成膜を可能にする装置。同社が開発したのは、省エネルギー効果が大きく、グリーンエレクトロニクスの要として近年期待される炭化ケイ素(SiC)や窒化ガリウム(GaN)などの次世代パワー半導体のゲート酸化膜形成用のもので、SiCやGaNを使った次世代パワー半導体では高速スイッチングと高耐圧が求められ、トランジスタのゲート酸化膜をできるだけ薄く精密に形成する必要があることから、需要の広がりが期待されている。
出所:株式経済新聞(株式会社みんかぶ)
ALD(原子層堆積)装置とは、正確に制御された方法で数ナノメートルの超薄膜成膜を可能にする装置。同社が開発したのは、省エネルギー効果が大きく、グリーンエレクトロニクスの要として近年期待される炭化ケイ素(SiC)や窒化ガリウム(GaN)などの次世代パワー半導体のゲート酸化膜形成用のもので、SiCやGaNを使った次世代パワー半導体では高速スイッチングと高耐圧が求められ、トランジスタのゲート酸化膜をできるだけ薄く精密に形成する必要があることから、需要の広がりが期待されている。
出所:株式経済新聞(株式会社みんかぶ)