【材料】Jテック・Cが大幅続伸、中国研究施設向けX線ミラーの潜在的ニーズ高水準
Jテック・C <日足> 「株探」多機能チャートより
高精度X線ミラーについて会社側では「国内外の研究施設向けで断続的に受注を獲得している。研究拠点が新設されると商機が生まれるが、中国は科学技術分野では現在欧米の後塵を拝しており、キャッチアップに力を入れている。そのため中国は研究施設向け案件の潜在的ニーズが高水準で今後も(高精度X線ミラーの)需要開拓余地が大きい」としている。同社は21年11月にも北京の研究施設向けで2億円以上の受注を獲得した実績がある。
一方、新規事業として力を入れる装置事業ではパワー半導体向けなどを主力にプラズマ援用研磨装置や同社独自のCARE加工技術を活用した次世代研磨装置の受注獲得に傾注している。多方面で商談が進行中で、会社側も今後に期待を寄せている。
出所:MINKABU PRESS