【特集】「EUV」が7位に急浮上、レーザーテック新値追いの要因として関心高まる＜注目テーマ＞

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　みんかぶと株探が集計する「人気テーマランキング」で、「ＥＵＶ」が７位に急浮上している。

　レーザーテック<6920>が新値追いとなっている。同社株が株式市場で人気が高まっている背景には、ＥＵＶ（極端紫外線）関連分野での競争力の高さを背景に成長が継続するとの見方がある。

　ＥＵＶとは、半導体の微細化技術で用いられる露光光源の一種で、半導体製造工程のなかで、ＥＵＶ露光装置を用いて回路をチップ上に転写する時に用いられる。従来の露光光源の主流は、ＡｒＦ（フッ化アルゴン）という１９３ｎｍ（ナノメートル、ナノは１０億分の１メートル）の光源を用いているが、ＥＵＶ露光の波長は１３．５ｎｍと短くなり、その分より微細な加工ができるようになる。現在の最先端半導体の回路線幅は５ｎｍまで進んでいるが、ＥＵＶ露光では、理論上は２ｎｍまで細くできるとされている。線幅が細くなれば情報量を増やすことができ、同じ情報量なら小型化できるようになる。また、工程の簡略化などによりマルチパターニング（微細なパターンを形成するために複数回の露光を繰り返すこと）などで課題となっていた歩留まりの向上も期待できる。そのため、半導体各社はＥＵＶに関する投資を積極化している。

　特に、現在唯一のＥＵＶ露光装置メーカーであるオランダＡＳＭＬホールディングＡＤＲ<ASML>社が７月２１日に２１年１２月期の売上高予想を上方修正したことをきっかけに関心が高まっている。ＥＵＶ導入により、光源だけでなく露光手法や使用する部材などが従来とは大きく変化するため、周辺装置や部材メーカーにもビジネスチャンス拡大が期待できる。今後も関連銘柄への注目が続きそうだ。

　この日の関連銘柄では、レーザーテクのほかに、半導体感光材料（レジスト）を手掛ける東京応化工業<4186>、東洋合成工業<4970>が大幅高。ＥＵＶペリクル（フォトマスク用防塵カバー）を手掛ける三井化学<4183>や、シリコンウェハーのほかレジストを手掛ける信越化学工業<4063>なども買われている。

出所：MINKABU PRESS